这款管式炉以1800型硅钼为加热元件，采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用99刚玉管、两端用不锈钢法兰密封，用浮子流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品.

产品型号：HG02-KTL1600

更新时间：2024-09-06

厂商性质：生产厂家

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管式炉 CVD实验管式炉 双层壳体结构实验炉

型号：HG02-KTL1600

　　这款管式炉以1800型硅钼为加热元件，采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用99刚玉管、两端用不锈钢法兰密封，用浮子流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品.

型号规格：

型号	功率(kw)	电压(V)	外形尺寸(L×W×H)	加热区长(mm)	炉管尺寸	最高温度（℃）
KTL1600-Ⅰ	4	220	650×450×670	260	φ60×1000	1600
KTL1600-Ⅱ	4	220	650×450×670	260	φ80×1000	1600
KTL1600-Ⅲ	4	220	650×500×700	260	φ100×1000	1600